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L’équipe d’ECLEAR visite EICMA 2025 à Milan pour explorer les tendances du secteur des casques et visières

Gary Guo d’ECLEAR (à droite) lors d’un échange avec des professionnels du secteur à EICMA 2025, à Milan.
Gary Guo d’ECLEAR (à droite) lors d’un échange avec des professionnels du secteur à EICMA 2025, à Milan.

À EICMA 2025, à Milan, des membres de l’équipe d’ECLEAR ont examiné les évolutions des casques, des visières et de la mobilité sur deux roues, en s’intéressant particulièrement aux performances optiques, à la durabilité des surfaces et aux matériaux utilisés pour la production et l’assemblage.

Jack Pan et Gary Guo, membres de l’équipe d’ECLEAR, se sont rendus à EICMA 2025, à Fiera Milano Rho, pour suivre les évolutions des casques, des visières et de la mobilité sur deux roues, et échanger avec des acteurs du secteur.

Le salon a mis en avant des géométries de visière plus larges et plus complexes, des écrans solaires intégrés, des systèmes de casques modulaires, des constructions légères et des accessoires connectés. Ces évolutions imposent des exigences croissantes en matière de clarté optique, de résistance à l’abrasion, de performances antibuée, de tenue aux intempéries et de régularité de la production.

Pour ECLEAR, cette visite a rapproché deux volets de sa plateforme de matériaux. Les revêtements optiques contribuent aux performances des visières finies grâce aux revêtements durs, antibuée, photochromiques et à d’autres options de surface fonctionnelles. Les films fonctionnels et les matériaux antiadhésifs peuvent faciliter des étapes de fabrication telles que la protection temporaire des surfaces, le formage et la manutention, le masquage, la découpe à l’emporte-pièce, le transport et le retrait propre. Chaque structure de matériau doit être validée en fonction du substrat, de la géométrie et du procédé concernés.

Ces observations contribueront à orienter les discussions sur les applications avec les fabricants de casques et de visières et à définir des essais ciblés de revêtements, de films et de procédés.

WA