ஹெல்மெட் மற்றும் வைசர் தொழில்துறை போக்குகளை ஆராய Milan-இல் EICMA 2025-க்கு வருகை தந்த ECLEAR குழு

ஹெல்மெட், வைசர் மற்றும் இருசக்கர மொபிலிட்டி துறைகளின் முன்னேற்றங்களைப் பின்தொடரவும், தொழில்துறை பங்கேற்பாளர்களுடன் கருத்துகளைப் பரிமாறவும் ECLEAR குழு உறுப்பினர்களான Jack Pan மற்றும் Gary Guo, Fiera Milano Rho-வில் நடைபெற்ற EICMA 2025-க்கு வருகை தந்தனர்.

மேலும் அகலமான, சிக்கலான வைசர் வடிவவியல்கள், ஒருங்கிணைந்த சன் வைசர்கள், மாடுலர் ஹெல்மெட் அமைப்புகள், எடை குறைந்த கட்டமைப்பு மற்றும் இணைக்கப்பட்ட துணைச் சாதனங்கள் ஆகியவை கண்காட்சியில் முன்னிலைப்படுத்தப்பட்டன. இந்த முன்னேற்றங்கள், ஒளியியல் தெளிவு, தேய்மான எதிர்ப்பு, பனி படிதல் தடுப்பு செயல்திறன், காலநிலைத் தாங்குதிறன் மற்றும் உற்பத்திச் சீர்மை ஆகியவற்றுக்கு மேலும் கடுமையான தேவைகளை ஏற்படுத்துகின்றன.

ECLEAR-ஐப் பொறுத்தவரை, இந்தப் பயணம் அதன் பொருட்கள் தளத்தின் இரு பகுதிகளை இணைத்தது. கடினப் பூச்சு, பனி படிதல் தடுப்பு, photochromic மற்றும் பிற செயல்பாட்டு மேற்பரப்புத் தேர்வுகள் மூலம் ஒளியியல் பூச்சுகள், முழுமையாகத் தயாரிக்கப்பட்ட வைசரின் செயல்திறனை ஆதரிக்கின்றன. செயல்பாட்டு ஃபில்ம்கள் மற்றும் ரிலீஸ் பொருட்கள், தற்காலிக மேற்பரப்புப் பாதுகாப்பு, வடிவமாற்றம் மற்றும் கையாளுதல், மாஸ்கிங், டை-கட்டிங், போக்குவரத்து மற்றும் சுத்தமான பிரிப்பு உள்ளிட்ட உற்பத்திப் படிகளை ஆதரிக்க முடியும். ஒவ்வொரு பொருள் கட்டமைப்பும் தொடர்புடைய அடித்தளம், வடிவவியல் மற்றும் செயல்முறைக்கு ஏற்ப சரிபார்க்கப்பட வேண்டும்.

இந்தக் கவனிப்புகள், ஹெல்மெட் மற்றும் வைசர் உற்பத்தியாளர்களுடனான பயன்பாடு சார்ந்த கலந்துரையாடல்களுக்கு வழிகாட்டவும், இலக்கிடப்பட்ட பூச்சு, ஃபில்ம் மற்றும் செயல்முறைச் சோதனைகளை வரையறுக்கவும் உதவும்.